Schakelingen op processoren en geheugenchips zijn nog maar enkele nanometers breed en hoog. Het is voor halfgeleiderproducenten een enorme uitdaging om op deze schaal metingen en scans te doen. Nearfield Instruments brengt hier verandering in met een high-throughput metrologiesysteem. Tijdens de Precisiebeurs geven oprichter Hamed Sadeghian en Technolution-projectmanager Remco Jager een presentatie over de totstandkoming van de technologie.
Technologie om oppervlakken met zogeheten scanning probe microscopy (spm) op nanoschaal in beeld te brengen, bestaat al sinds 1986. Het werkt met minuscule cantilevers (scankoppen) die zijn voorzien van een punt die slechts een paar atomen groot is. Met die cantilever wordt het oppervlak van een wafer gescand. De krachten die hierbij optreden tussen de cantilever en het waferoppervlak zijn de input voor de meting.
De technologie was in potentie geweldig interessant voor de halfgeleiderindustrie, maar traditionele spm heeft een paar nadelen. Ten eerste is de scansnelheid laag en de punt van de scankop kan te snel breken. Het grootste nadeel is echter dat de kop het waferoppervlak beschadigt tijdens het scannen. Dat kan natuurlijk niet als je de kwaliteit van een processor wilt meten. De oplossing die Nearfield Instruments ontwikkelde met hulp van technologie-integrator Technolution heft die nadelen volledig op, zegt directeur en cto Hamed Sadeghian: ‘Wij scannen duizend keer zo snel en onze technologie is non-destructief. De wafer wordt niet aangetast door de scan.’
Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.
Login
Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.
